財政部等四部門發(fā)布《關(guān)于促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》。國家鼓勵的集成電路線寬小于28納米（含），且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅。若線寬小于65納米（含），所得稅優(yōu)惠年限為“五免五減半”。

　　從中可以看出，稅收優(yōu)惠政策向先進制程傾斜。華泰證券分析師胡劍認為，光刻膠是半導體光刻工藝的核心材料，決定了半導體圖形工藝的精密程度和良率。由于技術(shù)壁壘和客戶壁壘高，光刻膠市場被美日公司長期壟斷。受益于本土半導體產(chǎn)能持續(xù)擴大和集成電路大基金的支持，國產(chǎn)光刻膠正在迎來前所未有的發(fā)展機遇。

　　相關(guān)上市公司：

　　南大光電：最新公告，自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶使用認證，成為第一只通過產(chǎn)品驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠;

　　雅克科技：在高解析度光刻膠、透明光刻膠、CMOS光刻膠等方面正與下游特定客戶進行聯(lián)合研發(fā);

　　晶瑞股份：i線光刻膠已供應(yīng)國內(nèi)頭部芯片公司，高端KrF（248）光刻膠處于中試階段。